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| 報道年月日 |
2021/03/19 |
| 報道機関名 |
中国新聞 |
| 会員名 |
トクヤマ |
| タイトル |
半導体製造中の微細不純物 瞬時除去の技術 トクヤマ開発へ |
| 報道記録の内容 |
総合化学メーカーのトクヤマ（周南市）は18日、半導体の製造工程で出る微細不純物を瞬時に見つけて除去する技術を、台湾の工業技術研究院と共同開発すると発表した。第5世代（5G）移動通信システムの進展などで次世代半導体が高性能化、微細化するとみて、半導体向け洗浄液の品質を高める。
研究員は空気中の微細粒子を検出する先端技術を持つ。年初に共同で微細な不純物を見つける機器の開発を始めた。同社はその機器を活用して、洗浄液の高純度イソプロピルアルコール（IPA）の機能を高める。
情報機器の性能が上がり、サイズが小さくなる中、半導体も極小化が進んでおり、同社は「われわれの技術のレベルアップも求められてきた」とする。
同社は2018年、台湾に半導体関連の研究所を設け、研究院と技術交流を進めてきた。
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| 関連URL |
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